学生居室

プロジェクト棟 P604室

机とPC 窓からの風景

P604室は、研究室所属の学生が学習・研究に集中できる快適な環境を提供しています。個別の机とPCが提供され、実験データの整理やシミュレーションなどの作業をスムーズに進めることができます。また、電気ポット、電子レンジ、冷蔵庫、プリンター、ソファベッドといった設備も整っており、研究活動を支える利便性の高い環境が整備されています。

室内は明るく広々としており、大きな窓からは美しい山々を眺めることができます。疲れたときには、窓辺で観葉植物の世話をしたり、遠くの風景を眺めてリフレッシュすることもできます。植物や自然の景色が、集中力を取り戻す助けとなるでしょう。

作業机・ミーティングスペース

作業机 ミーティングスペース

このスペースは、研究に関する相談や面談、グループでのミーティングなど、多目的に利用できるエリアです。作業台には基本的な道具が揃っており、簡単な作業や試作が可能です。ミーティング用のホワイトボードやプロジェクターも設置されており、議論を深めたり、リラックスした雰囲気で意見交換を行うことができます。

3Dプリンタ

3Dプリンタ

  • 型番: Bambu Lab A1
  • 用途: 型や治具、その他研究の推進に必要な道具を作製しています。
  • 設置場所: P604室

研究室保有設備 (ナノ微細加工装置)

スパッタ装置

スパッタリング装置
(真空成膜装置)

  • 型番: 自作装置・企業からの寄付
  • 用途:金属材料、絶縁膜の成膜に使用
  • 設置場所: 315室
RIE装置

反応性イオンエッチング (RIE) 装置

  • 型番: 平行平板型RIE(自作装置・企業からの寄付)
  • 用途:プラズマ中の反応性ガスを利用して材料を選択的にエッチング(削り取る)する装置。高い異方性と精密さが求められる微細加工に適しており、ナノスケールの構造を形成可能です。
  • 設置場所: 315室
オーブン

角形真空定温乾燥器

  • 型番: Yamato DP63
  • 用途: 真空乾燥の幅広い用途に応えるよう設計されたコンパクトタイプの真空乾燥器です。乾燥の他、樹脂の脱泡・硬化あるいはベーキングに使用できます。使用温度範囲:40-200℃
  • 設置場所: 315室
オーブン

卓上型ランプ加熱装置

  • 型番: Advance Riko MILA-5050
  • 用途: 基板の熱処理に使用;試料サイズ最大50mm角まで熱処理可能; 最高温度は1200℃
  • 設置場所: 315室
オーブン

小型高温チャンバー

  • 型番: espec ST-110
  • 用途: エポキシやPDMS等の樹脂の硬化に使っています。
  • 設置場所: 316室
ドラフトチャンバ

ドラフトチャンバ

  • 用途: 薬品を扱う作業全般はここで行います。
  • 設置場所: 315室
UV照射器

紫外線スポット照射装置

  • 型番: 浜松ホトニクス LC6
  • 用途: UV硬化樹脂の硬化や表面改質に利用され、選択的な処理や微細加工プロセスに適しています。
  • 設置場所: 316室
オーブン

あわとり練太郎 脱泡装置

  • 型番: Thinky AR-100
  • 用途: 高速回転と加速度を利用して、液体やペースト状の材料から気泡を効率的に除去する装置
  • 設置場所: 315室
オーブン

超音波洗浄機

  • 型番: D-Sonic
  • 用途: 超音波を利用して液体中の微細な振動を発生させ、基板の表面の汚れを効率的除去する装置
  • 設置場所: 315室

研究室保有設備 (計測装置)

段差計

触針式薄膜段差計Dektak

  • 型番: Dektak-XT
  • 用途: 表面の段差や膜厚を高精度で測定する装置。プローブがサンプル表面をスキャンすることで、ナノメートルレベルの高さや粗さを評価可能
  • 設置場所: HRCC C棟
ソースメーター

2450型 ソースメータ

  • 型番: Keithley 2450
  • 用途: 汎用性の高いソースメータであり、最新の半導体、ナノスケール・デバイス、材料、有機半導体、プリンテッド・エレクトロニクス、その他小型・低消費電力のデバイスの特性評価に最適
  • 設置場所: 主に316室 (時々移動)
ソースメーター

2636B型 ソースメータ

  • 型番: Keithley 2636b
  • 用途: 電流・電圧の精密測定およびソース機能を備えた装置。半導体デバイスや電子材料の特性評価に利用され、ナノアンペアレベルの低電流測定や高精度のデバイス試験が可能。複数のチャネルを用いて効率的な測定が可能
  • 設置場所: 316室
マニュアルプローバー

マニュアルプローバー

  • 型番: (株)ESSテック
  • 用途: 半導体デバイスや試料の電気特性評価を行うため、プローブを手動で調整し、特定の測定ポイントに接触させる装置。微細デバイスの接触精度を高めながら、I-V特性や抵抗測定に使用
  • 設置場所: 316室
距測顕微鏡

測定顕微鏡

  • 型番: Mitutoyo MF-UA1010THD
  • 用途: 高倍率の光学観察と精密測定を組み合わせた顕微鏡。サンプルの微細構造の観察や寸法測定に適しており、半導体デバイスや微細加工部品の検査に使用
  • 設置場所: 316室
明暗視野顕微鏡

明暗視野顕微鏡

  • 型番: Olympus BX60M
  • 用途: 明視野モードではサンプル全体の構造を観察し、暗視野モードでは散乱光を利用して微小な構造や欠陥を高コントラストで観察する顕微鏡
  • 設置場所: 316室
光学顕微鏡

光学顕微鏡

  • 型番: Nikon C-PS / METAPHOT
  • 用途: 可視光を利用してサンプルを拡大観察する装置。微細構造の観察や、加工状態の確認、材料表面の検査など、多目的に利用される基本的な観察機器
  • 設置場所: 316室

研究室保有設備 (バイオ関係)

冷凍庫

超低温フリーザー

  • 型番: PHCBI MDF-C8V1
  • 用途: 生体サンプル(細胞、タンパク質、ウイルス試料など)の保存 (-80℃)
  • 設置場所: 315室
薬品冷蔵庫

冷蔵庫

  • 型番: 日本フリーザー NC-ME15A
  • 用途: 生体サンプル(細胞、タンパク質、ウイルス試料など)の保存 (4℃)
  • 設置場所: 315室
スパッタ装置

オートクレープ

  • 型番:As One NCC-1701
  • 用途: 滅菌処理
  • 設置場所: 315室
作業台

実験台

  • 用途: ここで試料作製、試薬調製等の作業を行っていることが多いです。
  • 設置場所: 316室
pH装置

卓上型pHメータ

  • 型番: HORIBA LAQUA F-72M
  • 用途:試薬のpH測定、試薬調製時に使用
  • 設置場所:315室
電子天秤

電子天秤

  • 型番: Mettler Toledo ME-T
  • 用途: 試料・薬品等の量りとり
  • 設置場所: 316室

共用設備

電子線描画装置

電子線描画装置

  • 型番: JEOL 6500F
  • 用途: 電子ビームを利用して感光性材料(レジスト)に高精度なパターンを描画する装置。ナノメートルスケールの微細加工が可能
  • 設置場所: HRCC クリーンルーム CR2
両面マスクアライナ

両面マスクアライナ

  • 型番:ユニオン光学 PEM-800
  • 用途:半導体ウェハや基板の両面に対して、高精度な露光プロセスを実現する装置。片面または両面同時にマスクパターンを転写でき、デバイス製作における高精度なアライメントが可能
  • 設置場所: HRCC クリーンルーム CR1
純水装置

超純水装置

  • 型番: Milli-Q
  • 用途: 高純度の超純水を生成する装置。ナノデバイス作製で、汚染を最小限に抑えるための水質が求められるプロセスに利用されます。イオン、微粒子、有機物を除去し、高品質の水を供給します
  • 設置場所: HRCC クリーンルーム CR1
ワイヤボンダ

ウェッジワイヤーボンダー

  • 型番: Westbond 7476D
  • 用途: 半導体デバイスや電子部品の製造工程で、チップと基板またはリードフレームを細い金属ワイヤーで電気的に接続するための装置
  • 設置場所: HRCC 1F

研究室の設備 (曾根研)

曾根研究室の Web サイトをご覧ください。